单工位喷淋清洗机包括底座、位于所述底座上方的上料箱、分别设于上料箱一侧的喷淋清洗装置和储液槽、用于夹紧待清洗的罐体的机械手、用于驱动机械手的驱动装置以及控制系统，其中，储液槽内设有撇油机构，顶部安装有重力油水分离装置，侧壁可活动的连接有集油盒，该单工位喷淋清洗机工作、操作和维修方便。

单工位喷淋清洗机。如图1所示，该单工位喷淋清洗机包括底座1、位于所述底座i上方的上料箱2、设于所述上料箱2—侧的喷淋清洗装置3、喷淋腔、储液槽4、用于夹紧待清洗的罐体的机械手、用于驱动所述机械手的驱动装置以及控制系统，其中，所述储液槽4内设有循环过滤栗、撇油机构，顶部安装有重力油水分离装置，侧壁可活动的连接有集油盒，使用时，喷洗过的清洗液先经过过滤篮过滤掉大颗粒，进入储液槽一侧，漂浮物经过重力油水分离装置再次清理，多余的清洗液从撇油机构溢流出去，循环过滤栗抽取清洗液经抽口过滤，栗出口经过滤栗入储液槽的另一侧，这样可以---喷淋栗始终抽入洁净的清洗液。

此方法适用于除去氧化膜或有机物。因为化学物质在硅片表面停留的时间比较短，对反应需要一定时间的清洗效果不好。在喷洗过程中所使用的化学试剂很少，对控制成本及环境保护有利。

随着集成电路制程工艺节点越来越---，对实际制造的几个环节也提出了新要求，清洗环节的重要性日益---。

清洗的关键性则是由于随着特征尺寸的不断缩小，半导体对杂质含量越来越敏感，而半导体制造中不可避免会引入一些颗粒、有机物、金属和氧化物等污染物。为了减少杂质对芯片良率的影响，实际生产中不仅仅需要提高单次的清洗效率，还需要在几乎所有制程前后都频繁的进行清洗，清洗步骤约占整体步骤的33%。

超音波清洗机对功率的选择是很重要的，机器设备有时用小功率，耗费很长期都没有消除污垢，达不上理想化得清洗实际效果，如果功率做到一定的标值，那样就迅速便将污垢除去，若选择大功率的，那样空蚀功效就会很---，清洗实际效果提升 了，可针对较高精密的零件表层就会遭受浸蚀，因而要按具体应用状况选择超声波功率。 超音波清洗机的---率选择，在开展应用时其超声波清洗---率会从28 khz 到 120khz中间，在应用水或水清洗剂时由空穴功效造成的物理学清洗力显而易见对低---有益，一般应用 28-40khz 上下。对小空隙、间隙、深孔的零件清洗，用高频率（一般 40khz 之上）---，关键适用高精密零部件的清洗，乃至好几百 khz 。对时钟零件清洗时，用 100khz 。